元ＮＺ駐在武官の被告、「在米大使館トイレに隠しカメラ設置」事件で公判に

米ワシントンのニュージーランド大使館のトイレに隠しカメラを設置したとして起訴されている、同国の元駐在武官アルフレッド・キーティング被告について、オークランド地方裁判所で８日、裁判が始まった。検察官によると、被告は２０１７年７月２６～２８日の期間、別の人物１人に対してわいせつ動画の撮影をひそかに試みたという。ニュージーランド・ヘラルド紙が伝えた。

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問題のビデオカメラは１年半前、当時キーティング被告が働いていた米ワシントンのニュージーランド大使館３階の男女共用トイレで発見された。

ある大使館職員がトイレの中で、カメラとＳＤメモリーカードが取りつけられた黒い小箱を発見。この職員は、誰かがこの装置を置き忘れたと考え、装置を暖房器具の上に置いた。

公共トイレの中にあるべきではないカメラに関して当局に苦情を申し立てたのは、外交官のスティーブン・ウォーレン氏だった。

鑑識の専門家らが後に、ＳＤカードからキーティング被告のＤＮＡの痕跡を検出したとされている。捜査関係者らはこのほか、被告のノートパソコンに残されていたデータを分析し、被告が隠しカメラに関心を持っていたほか、その購入手段と設定方法を検索していたことを明らかにした。

キーティング被告は罪を認めていない。弁護側は、被告に不利な証拠について、間接的なものだと主張している。被告は有罪とされた場合、最長で１年半の期間、刑務所に収監される可能性がある。裁判は４月末まで続く予定。

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